飛秒激光刻膜機(jī),激光去除氮化硅膜

這套超快激光非晶硅激光刻膜機(jī)是特別為太陽能產(chǎn)業(yè)光伏工業(yè)而設(shè)計的整套飛秒激光刻膜機(jī)系統(tǒng)?？捎糜诠夥姵丶す饧庸?激光去除氮化硅膜,氮化硅膜激光蝕刻,晶圓邊緣隔離，有可以當(dāng)作激光刻膜機(jī),激光劃片機(jī)使用。
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這套非晶硅電池激光刻膜機(jī)采用最為先進(jìn)的紫外飛秒激光和紅外納秒激光，可以同時提供如下四合一服務(wù)：
— sinx/sio2去除,
去除二氧化硅,去除氮化硅
邊緣隔離晶圓
背接觸激光燒結(jié)和激光刻槽
激光打標(biāo)
其中紫外飛秒激光用于sinx/sio2的選擇性燒蝕或切除(氮化硅膜蝕刻),配備的紫外飛秒激光可以非常精密地剝蝕sinx(去除氮化硅膜),同時在si層的直接或熱效應(yīng)降低到，從而增加載流子壽命（少子壽命）,避免微裂紋。而配備的1064nm的納秒激光工作非常穩(wěn)定而快速，將用于晶片的快速激光邊緣隔離，激光打標(biāo)和激光燒結(jié)。
該非晶硅激光刻膜機(jī)配備自動處理和掃描系統(tǒng)，支持5’’和6’’直徑的硅晶片加工。同時配備機(jī)械視覺系統(tǒng)以隨時調(diào)節(jié)激光束掃描,保持高度重復(fù)性和可靠性。
該非晶硅電池激光刻膜機(jī)配1級激光安裝防護(hù)裝置和灰塵消除系統(tǒng)，營造無塵加工環(huán)境，以保證飛秒激光的精密燒蝕和熱效應(yīng)影響的最小化。
非晶硅電池激光刻膜機(jī)特色
·配備的激光器處理能力高達(dá)800個晶片/小時或350000px/s
· 加工量為425個晶片/小時,優(yōu)化后可用于2.5mw/a產(chǎn)品的生產(chǎn)線
·適用5'’和6''硅晶片 紫外飛秒激光和紅外納秒激光光源
·機(jī)械視圖系統(tǒng)可調(diào)節(jié)激光掃描場
· 精密激光光束定位
·激光劃線激光剝蝕激光熔化
非晶硅電池激光刻膜機(jī)成功經(jīng)歷
·為用戶提供了無銀敷金屬技術(shù)生產(chǎn)太陽能電池
·成功地裝配到生產(chǎn)能力高達(dá)2.5mwp/a的生產(chǎn)線上。
這套非晶硅電池激光刻膜機(jī)使用飛秒激光對晶圓wafer的發(fā)射端進(jìn)行介電層（sinx)的選擇性移除。sinx厚度為50-90nm,覆蓋發(fā)射端，必須移除而不傷害發(fā)射 層。一種應(yīng)用是消蝕sinx層的同時，也產(chǎn)生bus bars和fingers開口，下一步,這些開口將被鎳覆蓋，這樣就形成了高質(zhì)量的前接觸。這套非晶硅激光刻膜機(jī)系統(tǒng)使用振鏡掃描器（galvanometer scanner)控制激光束切割發(fā)射端，獨具的機(jī)械視圖功能能夠探測晶圓位置。