鹽霧試驗(yàn)箱中鹽霧沉降率對(duì)試驗(yàn)結(jié)果的影響

鹽霧沉降率是鹽霧試驗(yàn)的一個(gè)重要參數(shù)，即指單位時(shí)間內(nèi)在單位面積上沉降的鹽霧量，可以反映出噴霧密度和均勻性的特性。
鹽霧試驗(yàn)的腐蝕產(chǎn)生，除了受到腐蝕介質(zhì)氯離子本身的作用之外，還受到金屬表面液膜中氧的擴(kuò)散影響。鹽霧顆粒越細(xì)，它所形成的表面積就越大，被吸附的氧量也就越多，腐蝕性也越強(qiáng)。在自然界中，有以上的鹽霧顆粒直徑在1lm以下。有研究表明直徑1lm的鹽霧顆粒表面所吸附的氧量與顆粒內(nèi)部溶解的氧量是相對(duì)平衡的。當(dāng)顆粒內(nèi)部的氧量達(dá)到較大值后，鹽霧顆粒再小，它所吸附的氧量也不會(huì)線性增加。但是如果液膜中的氧是處于靜止的狀態(tài)，當(dāng)液膜與金屬接觸時(shí)，金屬會(huì)很快被腐蝕，與此同時(shí)，液膜的氧含量也會(huì)快速下降，腐蝕反應(yīng)就會(huì)減慢。當(dāng)液膜保持不斷較新時(shí)，腐蝕反應(yīng)就會(huì)連續(xù)進(jìn)行。金屬表面液膜的較新速度隨鹽霧試驗(yàn)箱中鹽霧沉降率的增加而加快。鹽霧沉降率太低，就會(huì)影響到金屬表面液膜的較新速度。當(dāng)沉降率小于0.3ml/80cm2·h時(shí)，腐蝕速度隨沉降率的增加而增加。這是因?yàn)榻饘俦砻嬉耗ぽ^薄，氧很快到達(dá)陰極表面，故腐蝕率會(huì)緩慢上升，并逐步趨于平穩(wěn)；當(dāng)沉降率**過(guò)1.2ml/80cm2·h時(shí)，液膜繼續(xù)增厚，氧擴(kuò)散距離加大，到達(dá)陰極表面困難，腐蝕速度反而不加快。因此，我們需要選取適中的鹽霧沉降率，讓腐蝕速度處于穩(wěn)定狀態(tài)，這樣才能使得試驗(yàn)結(jié)果重現(xiàn)性好。通常要求鹽霧沉降率控制在1~2ml/80cm2·h范圍內(nèi),以保證鹽霧試驗(yàn)箱中試驗(yàn)結(jié)果的正確性。
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